Efè fotorefraktif se baz aplikasyon olografik optik, men li tou pote pwoblèm nan lòt aplikasyon optik, kidonk amelyore rezistans fotorefraktif nan kristal niobat ityòm yo te peye gwo atansyon, nan mitan ki règleman dopan se metòd ki pi enpòtan.Kontrèman ak fotorefraktif dopaj, anti-photorefraktif dopaj itilize eleman ki pa varyab valent pou diminye sant fotorefraktif la.Nan lane 1980, li te rapòte ke rezistans nan fotorefraktif nan gwo rapò Mg-dope kristal LN ogmante pa plis pase 2 lòd nan grandè, ki te atire atansyon vaste.An 1990, chèchè yo te jwenn ke zenk-dope LN gen gwo rezistans fotorefraktif menm jan ak mayezyòm-dope LN.Plizyè ane apre, yo te jwenn LN ki dope ak Endyòm ki gen rezistans fotorefraktif tou.

Nan lane 2000, Xu et al.dekouvri ke segondèrapò Mg-dopeLNkristal ak rezistans fotorefraktif segondè nan bann vizib hasekselan pèfòmans fotorefraktif nan bann UV.Dekouvèt sa a kraze nan konpreyansyon yo genyen soulafotorefraktif rezistans nanLNkristal, epi tou li ranpli vid la nan materyèl fotorefraktif aplike nan bann iltravyolèt.Longèdonn ki pi kout la vle di ke gwosè a nan griyaj olografik ka pi piti ak pi rafine, epi yo ka dinamik efase ak ekri nan griyaj la pa limyè iltravyolèt, epi li soti nan limyè wouj ak limyè vèt, konsa tankou reyalize aplikasyon an nan optik olografik dinamik. .Lamarque et al.adopte segondè arapò Mg-dopeLN kristal bay nan Inivèsite Nankai kòm fotorefraktif UV lamateryèlak reyalize pwogramasyon de dimansyon lazè make lè l sèvi avèk de-onn makonnen limyè anplifikasyon.

Nan premye etap la, eleman dopan anti-photorefraktif enkli eleman divalan ak trivalan tankou mayezyòm, zenk, endyòm ak scandium.An 2009, Kong et al.devlope anti-fotorefraktif dopaj lè l sèvi avèk tetraeleman valan tankou hafnium, zirkonyòm ak fèblan.Lè w ap reyalize menm rezistans fotorefraktif la, konpare ak eleman divalan ak trivalent, kantite lajan dopaj eleman tetradvalan se mwens, pou egzanp, 4.0 mol% hafnium ak 6.0 mol% mayezyòm dope.LNkristal gen similarrezistans fotorefraktif,2.0 mol% zirkonyòm ak 6.5 mol% mayezyòm dopeLNkristal gen similarrezistans fotorefraktif.Anplis, koyefisyan segregasyon nan hafnium, zirkonyòm ak fèblan nan niobat ityòm se pi pre 1, ki se pi favorab pou preparasyon an nan kristal-wo kalite.

LN-wo kalite devlope pa WISOPTIC [www.wisoptic.com]